低成本高效率連續鍍膜生產線

主要技術指標：

基片尺寸：1100×1300×0.5~1.1

生產節拍：30S/架

可完成膜系：

低溫ITO、金屬膜、氧化物膜生產線特點：

    低成本、高效率，30s節拍，機械手自動上下片，廣泛應用于TP、LCD、TFT、FPD、PDP等諸多行業。